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大基金二期蓄势待发 有望受益标的全面梳理

编辑 : 王远   发布时间: 2020-03-19 17:51:17   消息来源: sina 阅读数: 0 收藏数:
原标题:大基金二期蓄势待发 有望受益标的全面梳理 来源:财富号  背景:  国家集成...

原标题:大基金二期蓄势待发 有望受益标的全面梳理 来源:财富号

  背景:

  国家集成电路产业基金二期于 10 月 22 日成立,注册资本超 2000 亿:根据工商信息显示,国家集成电路产业投资基金二期股份有限公司已于2019 年 10 月 22 日注册成立,注册资本为 2041.5 亿元,共 27 位股东,均为企业法人类型。相比一期,二期股东资金来源更为多样化,天眼查显示,国家大基金二期共 27 位股东,均为企业法人类型,其中包含中国电信、联通资本、中国电子信息产业集团、紫光通信、福建三安等机构。

  按照一期 1:3 的撬动比,所撬动的社会资金规模在 6000 亿元左右,按照加重投资装备行业的投资思路,预计设备端的投资占比为 15%左右,则设备方面的投资额可达 900 亿元。我们预计,首先,二期基金将对包括刻蚀机、薄膜设备、测试设备、清洗设备等领域已有布局的企业提供强有力的支持。这将会帮助龙头企业巩固自身地位,继续扩大市场。此外,提升企业成线能力可以帮助扩大设备产品布局。第二,产业资源和产业链的整合可以提高资源的有效利用率,帮助国产设备提供工艺认证条件并且打造良好的口碑和品牌,最终实现国产替代进口。

  国产设备强化“中国芯”实力,建议关注半导体刻蚀、薄膜沉积、检测和清洗设备公司。根据大基金二期投资方向,我们预计半导体设备公司在薄膜沉积、刻蚀、检测和清洗等领域国产替代的脚步将进一步加快。光刻、薄膜沉积、刻蚀和离子注入是先进制程的关键环节,在半导体设备投资中占比分别约为 24%,18%,10%,2.5%,北方华创、中微公司、沈阳拓荆在长江存储设备招标中占比逐步提升。清洗、检测和封装非先进制程领域设备投资占比分别约为 8%,18%和 10%,国内外差距相比光刻、刻蚀、离子注入等关键领域较小,国内公司已实现相关设备的国产替代。此外,大基金二期还将加大对集成电路设计业和半导体材料的支持,建议关注国产 IC 设计板块、半导体材料板块。

  大基金二期有望投资的标的重点梳理一下:

晶盛机电:国内晶体硅生长设备龙头企业;

北方华创:产品线最全(刻蚀机,薄膜沉积设备等)的半导体设备公司;

长川科技:检测设备从封测环节切入到晶圆制造环节

精测电子:国家大基金已经增资子公司,从面板检测进军半导体检测领域;

华兴源创:国产半导体测试设备龙头;

至纯科技:国内高纯工艺龙头,清洗设备。

中微公司:聚焦用于集成电路、LED 芯片等微观器件领域的等离子体刻蚀设备、深硅刻蚀设备和 MOCVD 设备等关键设备的研发、生产和销售。

万业企业:集成电路离子注入机;

芯源微:光刻工序涂胶显影设备(涂胶/显影机、喷胶机)和单片式湿法设备(清洗机、去胶机、湿法刻蚀机)。

  整体高位的建议回避,可以关注低位的或者强势的!

(文章来源:财富号)

(责任编辑:DF528)

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